日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機

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更新日期：2025-05-02

簡要描述：

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機UVE-251S
使用從250W到2000W的超高壓汞燈的高性能積分器，可以通過準(zhǔn)直透鏡用紫外線均勻照射工作表面。我們有各種各樣的輻照直徑單位。我們也可應(yīng)要求提供各種過濾器。它被廣泛用于電子零件的曝光，例如半導(dǎo)體晶片和晶體振蕩器，掩模對準(zhǔn)器的光源，各種光學(xué)器件和曝光實驗設(shè)備。

詳細介紹

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機UVE-251S

特征

	*的光學(xué)設(shè)計，實現(xiàn)了高功率和緊湊性。
	高穩(wěn)定性，長壽命，使用無臭氧燈。
	可以根據(jù)應(yīng)用選擇照射波長范圍。
	自動化線路的豐富遠程功能。
	完善的防噪音措施。
	照射頭可以90°的增量進行更改。照射角度可根據(jù)目的和用途而改變。
	配備了燈泡弧光監(jiān)視器，更換燈泡時可以輕松調(diào)節(jié)光軸。

用

●UV粘合應(yīng)用用于CD和DVD驅(qū)動器的光學(xué)拾取透鏡和電子產(chǎn)品的
　　

粘合
　　

，例如液晶玻璃的粘合和密封

●光致抗蝕劑應(yīng)用
　　

各種微器件（晶體管，晶體換能器，引線框架
　　

等）：硅片的曝光光源，各種光學(xué)實驗

使用從250W到2000W的超高壓汞燈的高性能積分器，可以通過準(zhǔn)直透鏡用紫外線均勻照射工作表面。我們有各種各樣的輻照直徑單位。我們也可應(yīng)要求提供各種過濾器。它被廣泛用于電子零件的曝光，例如半導(dǎo)體晶片和晶體振蕩器，掩模對準(zhǔn)器的光源，各種光學(xué)器件和曝光實驗設(shè)備。

*對于大輸出（2 kW或更大）和大面積（300mmΦ或更大），通過結(jié)合高性能積分鏡和高精度準(zhǔn)直鏡可以再現(xiàn)均勻的輻射。請聯(lián)xi我們。

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機UVE-251S

關(guān)于紫外線強度

測量儀器采用UVP-365JW　　

測量波長365nm

單位mW /cm²

		光源單元
		UVE-251S	UVE-502S	UVE-1001S	UVE-2001S
	照射距離	紫外線強度	紫外線強度	紫外線強度	紫外線強度
EL-100 * 1	200	二十五	60	110	180
EL-125	200	15	40	70	110
EL-160	300	十	二十五	40	70
EL-200	350	8	20	30	50
EL-220	350	6	15	二十五	40
EL-240	350	---	十	18歲	35
EL-270	350	---	8	15	二十五