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          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

          訪問(wèn)次數(shù):2688

          更新日期:2025-05-02

          簡(jiǎn)要描述:

          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
          納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注,它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。

          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
          品牌其他品牌物料類(lèi)型其他
          適用物料瀝青動(dòng)力類(lèi)型電動(dòng)
          布局形式臥式攪拌方式強(qiáng)制式攪拌
          每次處理量范圍1L攪拌鼓形狀圓槽型

          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

          低價(jià)UV納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential


          納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注,它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
          該設(shè)備是在型號(hào) ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號(hào)。
          以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎,繼承自上層。

          1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎,殘膜少,膜厚均勻性高!
          2. *降低成本,實(shí)現(xiàn)低價(jià)!
          3.支持消泡氣工藝!
          4.兼容各種模具!
          5. 豐富的選項(xiàng)可以升級(jí)!

          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

          納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注,它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
          該設(shè)備是在型號(hào) ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號(hào)。
          以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎,繼承自上層。

          1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎,殘膜少,膜厚均勻性高!
          2. *降低成本,實(shí)現(xiàn)低價(jià)!
          3.支持消泡氣工藝!
          4.兼容各種模具!
          5. 豐富的選項(xiàng)可以升級(jí)!

          特征

          1.實(shí)現(xiàn)高精度結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移


          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
          具有*并聯(lián)機(jī)構(gòu)的“軟載物臺(tái)"實(shí)現(xiàn)了精細(xì)的轉(zhuǎn)印操作,可最大限度地減少轉(zhuǎn)印缺陷和納米級(jí)圖案形成。此外,新開(kāi)發(fā)的 LED 光源可實(shí)現(xiàn)均勻的紫外線照射,并實(shí)現(xiàn)低邊緣粗糙度。

          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

          2.支持消泡氣工藝


          日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
          該設(shè)備與消泡氣體工藝兼容(可選)。
          即使在大氣印記中,氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發(fā)生。

          3.兼容各種模具


          模具尺寸 □ 可以從 10 mm 轉(zhuǎn)移到最大 90 mm。
          除石英外,還可以選擇使用其他材料,例如電鑄鎳。




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