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          thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

          訪問次數(shù):1646

          更新日期:2024-03-23

          簡(jiǎn)要描述:

          thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
          CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們?cè)谶@臺(tái)機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。

          thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
          品牌其他品牌燃料電加熱鍋爐
          結(jié)構(gòu)形式立式出口壓力高壓

          thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

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          ? 型號(hào)。 納米CVD-8G(用于石墨烯合成)
          ?型號(hào)。 納米CVD-8N(用于碳納米管)


          每批僅需 1 分鐘,可輕松合成高質(zhì)量石墨烯和碳納米管

          CVD(化學(xué)氣相沉積)

          CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們?cè)谶@臺(tái)機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。 在與研究機(jī)構(gòu)的合作下,已經(jīng)驗(yàn)證了使用拉曼光譜,SEM,AFM等分析數(shù)據(jù)可以制備高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。 

          冷壁CVD

          采用冷壁/高溫樣品加熱臺(tái)(熱板),反應(yīng)快,重現(xiàn)性好。 設(shè)備小型化,加工時(shí)間縮短,可操作性強(qiáng),可創(chuàng)建并存儲(chǔ)30種合成配方。 除了標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)配置外,還可以根據(jù)要求定制設(shè)備配置。 nanoCVD系統(tǒng)是一種實(shí)驗(yàn)裝置,盡管體積小,但具有為基礎(chǔ)研究和開發(fā)領(lǐng)域做出貢獻(xiàn)的無限潛力。

          特征

          • 無需使用大型設(shè)備即可輕松進(jìn)行石墨烯碳納米管 (SWNT) 沉積實(shí)驗(yàn)

          • 1批次只需30分鐘!

          • 冷壁式高效高精度過程控制

          • 快速升溫:室溫→1100°C約3分鐘

          • 高性能機(jī)器,具有高精度的溫度流量控制和出色的可重復(fù)性

          • 操作簡(jiǎn)單! 通過 5 英寸觸摸屏進(jìn)行操作和配方管理

          • 最多可創(chuàng)建和保存 30 個(gè)配方和 30 步合成程序。

          • 標(biāo)配專用軟件,數(shù)據(jù)記錄為輸出PC上的CSV文件

          • USB電纜連接,PC端的配方創(chuàng)建→上傳到設(shè)備

           thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

          主要規(guī)格

          A. 主要規(guī)格

          1. 反應(yīng)室

          不銹鋼SUS304泄漏檢查

          2. 加熱階段

          陶瓷

          3. 兼容的樣本量

          20 x 40毫米

          4. 加熱加熱器

          高純石墨加熱器MAX1050°C

          5. 溫度控制

          包括K型熱電偶標(biāo)準(zhǔn)(安裝在加熱臺(tái)下方)

           

          B. 過程控制設(shè)備規(guī)格

          1. 氣體控制

          質(zhì)量流量控制器 x 3 (Ar, H2, CH4)

          2. 壓力控制

          20托爾·

          3. 真空抽真空

          包括愛德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3(3?/小時(shí))

          4. 操作面板

          前置式 5 英寸觸摸屏 (歐姆龍)

          5. 風(fēng)冷

          通過冷卻風(fēng)扇對(duì)外殼進(jìn)行內(nèi)部冷卻

          6. 控制系統(tǒng)

          PLC自動(dòng)過程控制

           

          C. 軟件(包括標(biāo)準(zhǔn))

          1. 納米CVD軟件

          包括標(biāo)準(zhǔn)(安裝石墨烯的標(biāo)準(zhǔn)程序)

          2. 界面

          USB 2.0 連接

          3. 設(shè)置次數(shù)

          最多可以創(chuàng)建和保存 30 個(gè)配方和 30 個(gè)步驟

           

          D. 氣體引入連接規(guī)格

          1. 工藝氣體

          2 x 4/1 英寸世偉洛克卡套管連接,用于 Ar、H4、CH3

          2. 載氣

          N2 或 AR φ6mm 推鎖管連接 x 1

           

          E. 安全裝置

          1. 過熱

          由安裝在加熱臺(tái)上的熱電偶控制

          2. 外殼內(nèi)部過熱

          從內(nèi)部溫度開關(guān)

          3. 氣壓異常

          從質(zhì)量流量控制器

          4. 真空減少

          從真空傳感器

           

          F. 公用事業(yè)

          權(quán)力

          AC200V 單相 50/60Hz 13A

          1. 工藝氣體壓力

          最大 30psi 200sccm

          2. 載氣壓力

          60-80磅/平方英寸

           

          G. 尺寸和重量

          1. 尺寸

          405毫米(寬) x 415毫米(深) x 280毫米(高)

          2. 重量

          約27公斤



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